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FM100-SE 膜厚仪

产品性能介绍:


膜厚仪主要用于光面基底上的透明、半透明薄膜样品进行常规测量,可得到单层或少数多层薄膜的膜厚,也可以得到薄膜的光学参数(如,折射率n、消光系数k);适用于工业和科研中的常规测量,可应用于多种薄膜镀层工艺中,如化学机械抛光、化学气象沉积、物理气相沉积、硅片涂胶工艺等。

快速测量:仅需1-2秒就可完成一次测量

◆ 大范围膜厚测量:可测量膜厚范围从15nm – 70um

◆ 简洁操作:常规操作,只需点击一个按钮即可完

◆ 高效稳定:适用于工业现场,稳定可靠

◆ 经济实用:能够满足膜厚的常规测量,成本较低

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产品参数说明:


一般指标:

● 光谱范围:370 – 1000 nm

● 光谱分辨率:1.6 nm

● 样品大小:典型晶圆尺寸12吋(即直径300mm) 

● 测量光斑:典型1.5mm

● 膜厚测量范围(仅测膜厚时):15 nm – 100 um

(对Si上的SiO2样品)

● 膜厚测量范围(同时测膜厚和n、k时):100 nm以上

● 膜层数目:1-4层


光学和机械组件:

● 光源:宽光谱光源

● 探测器:高灵敏低噪声阵列式光谱探测器

● 控制箱:含电路板、控制单元、电源、光源

● 输出设备:软件界面支持输出、输入光谱数据



性能指标:

● 膜厚测量重复性:0.1 nm(对Si上100 nm的SiO2样品)

● 准确度:2 nm或0.4%(对Si上的SiO2样品)

● 单次测量时间:典型时间1-2秒,与测量设置和样品性质有关


软件:

● 界面语言:多语言界面可选择(包括中/英文),默认中文

● 操作模式:一键式常规测量模式(初学者可方便应用);高级分析模式(可进行复杂材料的高级分析)

● 光谱测量:手动/自动执行用户定义的任务;光谱以标准的波长单位显示

● 测量结果输出:反射率;膜厚、折射率、消光系数

● 建模、模拟和拟合:软件能够拟合多层结构(单层膜、多层膜)

● 结果显示:显示图形;先进的报表功能,输出测量和计算光谱、光学模型和拟合参数

● 文件管理功能:软件基于Windows平台,提供全面的文件管理功能

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